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J-GLOBAL ID：200902083979276898   整理番号：90A0548157

CVD研究の現状と化学工学的手法の意義

Present status of research on chemical vapor deposition methods and significance of chemical engineering approach.

著者 (1件)： 小宮山宏 (東大 工)
資料名： 化学工学論文集
巻： 16  号： 3  ページ： 415-429  発行年： 1990年05月 
JST資料番号： S0110B  ISSN： 0386-216X  CODEN： KKRBAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 気体原料から,化学反応を経て固体を合成するCVD法は,基幹的...

シソーラス用語： 化学蒸着 ,...

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分類 (1件)： 反応装置  (XE01030X)

引用文献 (63件)：

• 1) Aoyagi, Y., A. Doi, S. Iwai and S. Namba : J. Vac. Sci. Tech., B5, 1460 (1987)
• 2) Belton, D.N., S.J. Harris, S.J. Schmierg, A.M. Weiner and T.A. Perry : Appl. Phys. Lett., 54,416 (1989)
• 3) Blech, I.A. and H.A. Vander Plas : J. Appl. Phys., 54, 3489 (1983)
• 4) Brock, J.R. and G.M. Hidy : J. Appl. Phys., 36, 1857 (1965)
• 5) Bryant, W.A. : J. Crys. Growth. 35,257 (1976)

タイトルに関連する用語 (5件)： CVD ,  研究 ,  現状 ,  化学工学 ,  手法