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J-GLOBAL ID：200902092072761808   整理番号：90A0893179

光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発 (第2報) シリコンウエハ表面付着微粒子の測定

Designing a new apparatus for measuring particle sizes on nanometer order by light-scattering (2nd Report). Measurement for foreign particles on the surface of raw Si water.

著者 (5件)： 森勇蔵 (大阪大 工) ,  安弘 (大阪電通大) ,  遠藤勝義 (大阪大 工) ,  山内和人 (大阪大 工) ,  井出たかし (愛媛大 工)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 56  号： 10  ページ： 1847-1852  発行年： 1990年10月 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： アルゴンレーザと光散乱法を用いた標記測定法に改良を加え,測定...

シソーラス用語： 光走査 ,...
準シソーラス用語： 粒度測定

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分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

引用文献 (4件)：

• 1) M. Born and E. Wolf : Principles of Optics, Pergamon Press, Great Britain, (1980) 633-656.
• 2) 森 勇蔵ほか二光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発, 精密工学会誌, 54, 11 (1988) 100.
• 3) 林 達郎二微弱光測定用光電子増倍管, 分光研究, 22, 4 (1973) 233.
• 4) 清水慶昭, 達 保宏, 稲葉文男 : 極微弱な光情報の計測, 光学, 4, 3 (1975) 105.

タイトルに関連する用語 (7件)： 光散乱法 ,  ナノメータ ,  オーダ ,  粒径測定 ,  開発 ,  シリコンウエハ ,  微粒子