文献

J-GLOBAL ID：200902107422508717   整理番号：99A0609734

193nmリソグラフィー用の脂環式アクリル酸エステル重合体に基づいた化学増幅ネガティブ型レジスト

Chemically Amplified Negative Resists Based on Alicyclic Acrylate Polymers for 193-nm Lithography.

著者 (3件)： IWASA S (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  MAEDA K (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  HASEGAWA E (NEC Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 12  号： 3  ページ： 487-492  発行年： 1999年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルカリ可溶性,接着及びリソグラフィー性能の観点から,化学増...

シソーラス用語： *化学増幅レジスト ,...
準シソーラス用語： ネガティブ型レジスト

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分類 (3件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  三環以上の炭素橋かけ多環化合物  (CF06110B)

物質索引 (4件)： アクリル酸2-[(1,2-ジヒドロキシ-4,7-メタノヒドリンダン-5-イル)オキシ]エチル ,  メタクリル酸2-[(1,2-ジヒドロキシ-4,7-メタノヒドリンダン-5-イル)オキシ]エチル ,  アクリル酸2-[(1,2-エポキシ-4,7-メタノヒドリンダン-5-イル)オキシ]エチル ,  5-(アクリロイルオキシ)-6-ヒドロキシノルボルナン-2-カルボン酸ラクトン

引用文献 (23件)：

• 1). S. Takechi, Y. Kaimoto, K. Nozaki, and N. Abe, J. Photopolym. Sci. Technol., 5, 439 (1992).
• 2). K. Nakano, K. Maeda, S. Iwasa, J. Yano, Y. Ogura, and E. Hasegawa, Proc. SPIE, 2195, 194 (1994).
• 3). K. Nakano, K. Maeda, S. Iwasa, T. Ohfuji, and E. Hasegawa, Porc. SPIE, 2438, 433 (1995).
• 4). M. Takahashi, S. Takechi, Y. Kaimoto, I. Hanyu, N. Abe, and K Nozaki, Proc. SPIE, 2438, 422 (1995).
• 5). R. D. Allen, G. M. Wallraff, R. A. DiPietro, D. C. Hofer, and R. R. Kunz, Proc. SPIE, 2438, 474 (1995).

タイトルに関連する用語 (6件)： リソグラフィー ,  脂環 ,  アクリル酸エステル重合体 ,  化学 ,  増幅 ,  ネガティブ型レジスト