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J-GLOBAL ID：200902113144031912   整理番号：98A0422022

光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法 (第7報) ウルトラクリーンルームでのSiウェーハ面の測定と微粒子測定表面評価

Particle size measuring method of nanometer order using the light-scattering method. (Report No. 7). Measurement of Si wafer surface in a ultra clean room and evaluation of surface for micro-particle measurement.

著者 (9件)： 安弘 (大阪電通大 工) ,  佐々木都至 (大阪電通大 工) ,  谷口浩之 (大阪電通大 工) ,  森勇蔵 (大阪大 大学院) ,  片岡俊彦 (大阪大 大学院) ,  遠藤勝義 (大阪大 大学院) ,  山内和人 (大阪大 大学院) ,  井上晴行 (大阪大 大学院) ,  井山章吾 (大阪大 大学院)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 1998  号： 春季  ページ： 674  発行年： 1998年03月 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

引用文献 (4件)：

• 森. 精密工学会誌. 1989, 2132-2137
• 森. 精密工学会誌. 1990, 1847-1852
• 森. 精密工学会誌. 1993, 1121-1126
• 安. 1997年度精密工学会春季大会論文集. 389

タイトルに関連する用語 (8件)： 光散乱法 ,  ナノメータ ,  オーダ ,  粒径測定 ,  クリーンルーム ,  Siウェーハ ,  微粒子 ,  評価