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J-GLOBAL ID:200902121940237983   整理番号:97A0262617

安定な大ビーム電流を使う新しいEB系によるナノ製作

Nanofabrication with a Novel EB System with a Large and Stable Beam Current.
著者 (6件):
資料名:
巻: 35  号: 12B  ページ: 6421-6425  発行年: 1996年12月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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標記の新しい電子ビーム系と高分解能レジストを組合わせたナノ製...
シソーラス用語:
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準シソーラス用語:
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
引用文献 (19件):
タイトルに関連する用語 (3件):
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