電子ビームリソグラフィー,反応イオンエッチング及び化学機械研磨によるプレーナ量子磁気ディスクの製作

KRAUSS P R; CHOU S Y

文献

J-GLOBAL ID：200902145448450600 整理番号：96A0169246

電子ビームリソグラフィー,反応イオンエッチング及び化学機械研磨によるプレーナ量子磁気ディスクの製作

Fabrication of planar quantum magnetic disk structure using electron beam lithography, reactive ion etching, and chemical mechanical polishing.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=96A0169246&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=96A0169246&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=E0974A") }}

著者 (2件)： ,
資料名：
巻： 13 号： 6 ページ： 2850-2852 発行年： 1995年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

従来の磁気記録密度を2桁上回る65Gbit/in<sup>2...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=96A0169246&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=E0974A") }}

固体デバイス製造技術一般 , 電子・磁気・光学記録

, , , , , ,

前のページに戻る