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J-GLOBAL ID：200902159538222845   整理番号：01A0758400

157nmリソグラフィーのための248nmレジスト用主鎖の利用

Rejuvenation of 248nm Resist Backbones for 157nm Lithography.

著者 (9件)： BAE Y C (Cornell Univ., NY, USA) ,  DOUKI K (Cornell Univ., NY, USA) ,  YU T (Cornell Univ., NY, USA) ,  DAI J (Cornell Univ., NY, USA) ,  SCHMALJOHANN D (Cornell Univ., NY, USA) ,  CONLEY W (International SEMATECH, TX, USA) ,  MILLER D (International SEMATECH, TX, USA) ,  BALASUBRAMANIAN R (Intel Corp., CA, USA) ,  OBER C K (Cornell Univ., NY, USA)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 14  号： 4  ページ： 613-620  発行年： 2001年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 下記の3種類のアクリル系,スチレン系単量体を合成し,それらの...

シソーラス用語： *フッ素化重合体 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (3件)： アクリル酸1-(トリフルオロメチル)-1-[4-[1-(トリフルオロメチル)-1-ヒドロキシ-2,2,2-トリフルオロエチル]シクロヘキシル]エチル ,  アクリル酸1-(トリフルオロメチル)-1-[4-[1-(トリフルオロメチル)-1-(メトキシメトキシ)-2,2,2-トリフルオロエチル]シクロヘキシル]エチル ,  2-(エトキシメトキシ)-2-(4-ビニルフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン

引用文献 (9件)：

• 1). Kunz, R. R.; Bloomstein, T. M.; Hardy, D. E.; Goodman, R. B.; Downs, D. K.; Curtin, J. E. J. Vac. Sci. Technol. B 1999, 3267.
• 2). Przybilla, K. J.; RÖschert, H.; Pawlowski, G. Adv. Mater. 1992, 4, 239; Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 1992, 1672, 500.
• 3). Ito, H.; Seehof, N.; Sato, R. Polym. Mater. Sci. Eng. 1997, 77, 449; Ito, H.; Seehof, N.; Sato, R.; Nakayama, T.; Ueda, M. ACS Symp. Ser. 1998, 706, 449.
• 4). Schmaljohann, D.; Bae, Y. C.; Weibel, G. L.; Hamad, A. H.; Ober, C. K. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2000, 3999, 330.
• 5). Bae, Y. C., Dai, J., Weibel, G. L., Ober, C. K. Polym. Prepr. 2000, 41(2), 1586.

タイトルに関連する用語 (3件)： リソグラフィー ,  レジスト ,  主鎖