原子的に平坦な表面を持つSrTiO<sub>3</sub>(100)上での20nm厚のPb(Zr,Ti)O<sub>3</sub>薄膜の有機金属化学気相成長によるエピタキシャル成長ならびに強誘電特性

NONOMURA H; FUJISAWA H; SHIMIZU M; NIU H

文献

J-GLOBAL ID：200902169397993619 整理番号：03A0050098

原子的に平坦な表面を持つSrTiO₃(100)上での20nm厚のPb(Zr,Ti)O₃薄膜の有機金属化学気相成長によるエピタキシャル成長ならびに強誘電特性

Epitaxial Growth and Ferroelectric Properties of the 20-nm-Thick Pb(Zr,Ti)O₃ Film on SrTiO₃(100) with an Atomically Flat Surface by Metalorganic Chemical Vapor Deposition.

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資料名：
巻： 41 号： 11B ページ： 6682-6685 発行年： 2002年11月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

標題の方法で調製したPZT薄膜について,誘電特性に及ぼす基板...

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強誘電体,反強誘電体,強弾性 , 酸化物薄膜

引用文献 (16件)：

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原子的に平坦な表面を持つSrTiO3(100)上での20nm厚のPb(Zr,Ti)O3薄膜の有機金属化学気相成長によるエピタキシャル成長ならびに強誘電特性

原子的に平坦な表面を持つSrTiO₃(100)上での20nm厚のPb(Zr,Ti)O₃薄膜の有機金属化学気相成長によるエピタキシャル成長ならびに強誘電特性