X線屈折効果を用いた多孔質けい素の多孔性の測定

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J-GLOBAL ID：200902172201878486 整理番号：00A0651253

Measurement of Porosity of Porous Silicon Using X-Ray Refraction Effect.

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巻： 39 号： 6A ページ： 3649-3656 発行年： 2000年06月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

非破壊的なX線屈折効果を用いた多孔質Siの多孔性の測定の新し...

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半導体薄膜

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