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J-GLOBAL ID：200902174542859385   整理番号：99A0886739

ポジ型フォトレジストの光感度を増進するための酸性増幅剤としてのスルホン酸3-フェニル-3,3-エチレンジオキシ-1-プロピル

3-Phenyl-3,3-ethylenedioxy-1-propyl Sulfonates as Acid Amplifiers To Enhance the Photosensitivity of Positive-Working Photoresists.

著者 (5件)： KUDO K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  ARIMITSU K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  OHMORI H (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  ITO H (Toppan Co. Ltd., Saitama, JPN) ,  ICHIMURA K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 11  号： 8  ページ： 2119-2125  発行年： 1999年08月 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 少量の酸の存在下で,標記化合物(1)は,溶液および高分子マト...

シソーラス用語： *化学増幅レジスト ,...

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分類 (3件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  チオフェン  (CF07074D)

物質索引 (5件)： 2-フェニル-2-[2-(4-メチルフェニルスルホニルオキシ)エチル]-1,3-ジオキソラン ,  2-フェニル-2-[2-(2,4,6-トリメチルフェニルスルホニルオキシ)エチル]-1,3-ジオキソラン ,  2-フェニル-2-[2-(2,4,6-トリイソプロピルフェニルスルホニルオキシ)エチル]-1,3-ジオキソラン ,  2-フェニル-2-[2-(メチルスルホニルオキシ)エチル]-1,3-ジオキソラン ,  2-フェニル-2-[2-(ベンジルオキシ)エチル]-1,3-ジオキソラン

タイトルに関連する用語 (7件)： ポジ型フォトレジスト ,  光感度 ,  酸性 ,  増幅 ,  スルホン酸 ,  フェニル ,  ピル