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J-GLOBAL ID：200902178258341738   整理番号：96A0169174

ナノビームプロセスシステム 3nmプローブサイズの超高真空電子ビームリソグラフィーシステム

Nanobeam process system: An ultrahigh vacuum electron beam lithography system with 3nm probe size.

著者 (8件)： HIROSHIMA H (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  OKAYAMA S (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  OGURA M (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  KOMURO M (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  NAKAZAWA H (JEOL Ltd., Tokyo, JPN) ,  NAKAGAWA Y (JEOL Ltd., Tokyo, JPN) ,  OHI K (JEOL Ltd., Tokyo, JPN) ,  TANAKA K (JEOL Ltd., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 13  号： 6  ページ： 2514-2517  発行年： 1995年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： “ナノビームプロセスシステム”を構築した。これは無機レジスト...

シソーラス用語： 電子ビームリソグラフィー ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： プローブ ,  サイズ ,  高真空 ,  電子ビームリソグラフィー