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J-GLOBAL ID：200902184555256928   整理番号：94A0598464

0.25μmリソグラフィー用のポジティブ型レジストの乾式現像法

Positive tone dry development process for 0.25 μm lithography.

著者 (4件)： BAIK K-H (Interuniversity Microelectronics Center (IMEC), Leuven, BEL) ,  GOETHALS A M (Interuniversity Microelectronics Center (IMEC), Leuven, BEL) ,  RONSE K (Interuniversity Microelectronics Center (IMEC), Leuven, BEL) ,  VAN DEN HOVE L (Interuniversity Microelectronics Center (IMEC), Leuven, BEL)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 7  号： 3  ページ： 517-532  発行年： 1994年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 短波長リソグラフィー用の液相シリル化法を用いたポジティブ型拡...

シソーラス用語： ノボラック ,...

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分類 (2件)： その他の製品,半製品,利用  (YH06080T) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (18件)：

• 1). K. Yamanaka, H. Iwasaki, H. Nozue, and K. Kasama, Proc. SPIE 1927, (1993) 310.
• 2). M. D. Levenson, N. S. Viswanathan, and R.A. Simpson, IEE Trans. ED-29, (1982) 1828.
• 3). M. Noguchi, M. Muraki, Y. Iwasaki, and A. Suzuki, Proc. SPIE 1674, (1992) 392.
• 4). Ki-Ho Baik, L. Van den hove, A.M. Goethals, M.Op de Beeck, and B. Roland, J. Vac. Sci. Technol. B 8(6), (1990) 1481.
• 5). Ki-Ho Baik, L. Van den hove, and B. Roland, J. Vac. Sci. Technol. B 9(6), (1991) 3399.

タイトルに関連する用語 (3件)： リソグラフィー ,  ポジティブ型レジスト ,  現像