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J-GLOBAL ID：200902190866570081   整理番号：00A0437403

Characterization of SOI wafers by X-ray CTR scattering.

著者 (3件)： SHIMURA T (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  HOSOI T (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  UMENO M (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)
巻： 210  号： 1/3  ページ： 98-101  発行年： 2000年03月 
JST資料番号： B0942A  ISSN： 0022-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (2件)： SOI ,  CTR