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J-GLOBAL ID：200902195335361226   整理番号：01A0734003

二重RFプラズマ化学気相蒸着法による垂直配向カーボンナノチューブの形成

Formation of Vertically Aligned Carbon Nanotubes by Dual-RF-Plasma Chemical Vapor Deposition.

著者 (9件)： HIRAO T (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ITO K (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  FURUTA H (Japan Fine Ceramics Center, Tokyo, JPN) ,  YAP Y K (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  IKUNO T (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  HONDA S (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MORI Y (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SASAKI T (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  OURA K (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 40  号： 6B  ページ： L631-L634  発行年： 2001年06月15日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標題蒸着法を用いて,広面積の標題多層カーボンナノチューブ(M...

シソーラス用語： *ナノチューブ ,...

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分類 (2件)： 原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

引用文献 (7件)：

• 1) S. Iijima: Nature 354 (1991) 56.
• 2) W. Z. Li, S. S. Xie, L. X. Qian, B. H. Chang, B. S. Zou, W. Y. Zhou, R. A. Zhao and G. Wang: Science 274 (1996) 1701.
• 3) Z. F. Ren, Z. P. Huang, J. W. Xu, J. H. Wang, P. Bush, M. P. Siegal and P. N. Provencio: Science 282 (1998) 1105.
• 4) Z. P. Huang, J. W. Xu, Z. F. Ren, J. H. Wang, M. P. Siegal and P. N. Provencio: Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 3845.
• 5) S. H. Tsai, C. W. Chao, C. L. Lee and H. C. Shih: Appl. Phys. Lett. 74 (1999) 3462.

タイトルに関連する用語 (4件)： RF ,  プラズマ化学気相蒸着法 ,  垂直配向 ,  カーボンナノチューブ