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J-GLOBAL ID：200902209344429756   整理番号：03A0393009

プラズマエッチング処理の量子化学的分子動力学シミュレーション

Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulation of the Plasma Etching Processes
著者 (9件)：
SASATA K

SASATA K について

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

Tohoku Univ., Sendai, JPN について

, 
YOKOSUKA T

YOKOSUKA T について

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

Tohoku Univ., Sendai, JPN について

, 
KUROKAWA H

KUROKAWA H について

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

Tohoku Univ., Sendai, JPN について

, 
TAKAMI S

TAKAMI S について

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

Tohoku Univ., Sendai, JPN について

, 
KUBO M

KUBO M について

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

Tohoku Univ., Sendai, JPN について

, 
IMAMURA A

IMAMURA A について

(Hiroshima Kokusai Gakuin Univ., Hiroshima, JPN)

Hiroshima Kokusai Gakuin Univ., Hiroshima, JPN について

, 
SHINMURA T

SHINMURA T について

(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)

Toshiba Corp., Yokohama, JPN について

, 
KANOH M

KANOH M について

(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)

Toshiba Corp., Yokohama, JPN について

, 
MIYAMOTO A

MIYAMOTO A について

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

Tohoku Univ., Sendai, JPN について


資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers について


巻： 42  号： 4B  ページ： 1859-1864  発行年： 2003年04月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
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シソーラス用語：
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*二酸化ケイ素

二酸化ケイ素 について

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フルオロカーボン

フルオロカーボン について


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分類 (2件)：
分類
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その他の物質の放射線による構造と物性の変化 
(BK16124V)

その他の物質の放射線による構造と物性の変化 について

,  反応速度論・触媒一般 
(CB06010G)

反応速度論・触媒一般 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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プラズマエッチング

プラズマエッチング について

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量子化学

量子化学 について

, 
分子動力学シミュレーション

分子動力学シミュレーション について


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