Hf基高kゲート絶縁膜の走査型容量顕微鏡で調べた誘電特性の空間ゆらぎ

NAITOU Y.; ANDO A.; OGISO H.; KAMIYAMA S.; NARA Y.; NAKAMURA K.; WATANABE H.; YASUTAKE K.

文献

J-GLOBAL ID：200902215997116877 整理番号：06A0006195

Hf基高kゲート絶縁膜の走査型容量顕微鏡で調べた誘電特性の空間ゆらぎ

Spatial fluctuation of dielectric properties in Hf-based high-k gate films studied by scanning capacitance microscopy

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巻： 87 号： 25 ページ： 252908-252908-3 発行年： 2005年12月19日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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