文献

J-GLOBAL ID：200902216490437368   整理番号：03A0506394

Coulombビームぼけを考慮した最適電子ビーム投影式リソグラフィ用マスクバイアスの評価

Estimation of Optimum Electron-Beam Projection Lithography Mask Biases Taking Coulomb Beam Blur into Consideration

著者 (6件)： KOBINATA H (NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN) ,  YAMADA Y (NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN) ,  TAMURA T (NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN) ,  FUJII K (NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN) ,  NARIHIRO M (NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN) ,  OCHIAI Y (NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42  号： 6B  ページ： 3816-3821  発行年： 2003年06月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子ビーム投影式リソグラフィでは,大きな場が一ドーズにより曝...

シソーラス用語： *電子ビームリソグラフィー ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0506394&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (7件)：

• 1) K. Nakajima, H. Yamashita, Y. Kojima, S. Hirasawa, T. Tamura, Y. Yamada, K. Tokunaga, T. Ema, K. Kondoh, N. Onoda and H. Nozue: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 7535.
• 2) H. Kobinata, H. Yamashita, E. Nomura, K. Nakajima and Y. Kuroki: Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) 6767.
• 3) S. D. Golladay, H. C. Pfeiffer, J. D. Rockrohr and W. Stickel: J. Vac. Sci. & Technol. <B>B18</B> (2000) 3072.
• 4) G. Owen: J. Vac. Sci. & Technol. <B>B8</B> (1990) 1889.
• 5) T. H. P. Chang: J. Vac. Sci. & Technol. <B>12</B> (1975) 1271.

タイトルに関連する用語 (8件)： Coulomb ,  ビーム ,  ぼけ ,  電子ビーム ,  リソグラフィ ,  マスク ,  バイアス ,  評価