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J-GLOBAL ID：200902237879870188   整理番号：07A1014736

Cat-CVD法によるHMDSを用いたSiN_x系高性能積層バリアフィルムの作製

著者 (5件)： 太田泰広 (北陸先端科学技術大学院大) ,  加藤大輔 (北陸先端科学技術大学院大) ,  大平圭介 (北陸先端科学技術大学院大) ,  村田英幸 (北陸先端科学技術大学院大) ,  松村英樹 (北陸先端科学技術大学院大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 68th  号： 3  ページ： 1227  発行年： 2007年09月04日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,...
準シソーラス用語： CVD【化学蒸着】

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分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

物質索引 (1件)： ヘキサメチルジシラザン

タイトルに関連する用語 (4件)： Cat-CVD ,  HMDS ,  バリアフィルム ,  作製