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J-GLOBAL ID：200902238442135833   整理番号：04A0785939

SiN_xによって不動態化されたCuの単一ダマシン線におけるエレクトロマイグレーション誘起ボイドの成長動力学

Electromigration-Induced Void Growth Kinetics in SiN_x-Passivated Single-Damascene Cu Lines

著者 (1件)： YOKOGAWA S (NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43  号： 9A  ページ： 5990-5996  発行年： 2004年09月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiN_xによって不動態化されたCuの単...

シソーラス用語： *エレクトロマイグレーション ,...
準シソーラス用語： 象がん ,...

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分類 (2件)： 固体中の拡散一般  (BL06021L) ,  金属の格子欠陥  (BK12030F)

引用文献 (20件)：

• 1) C.-K. Hu, R. Rosenberg, H. S. Rathore, D. B. Nguyen and B. Agarwala: Proc. Int. Interconnect Tech. Conf., 1999, p. 267.
• 2) S. Yokogawa, N. Okada, Y. Kakuhara and H. Takizawa: Microelectron. Reliab. 41 (2001) 1409.
• 3) E. Liniger, L. Gignac, C.-K. Hu and S. Kaldor: J. Appl. Phys. 92 (2002) 1803.
• 4) C.-K. Hu, L. Gignac, E. Liniger, B. Herbst, D. L. Rath, S. T. Chen, S. Kaldor, A. Simon and W.-T. Tseng: Appl. Phys. Lett. 83 (2003) 869.
• 5) M. Lane, E. Liniger and J. Lloyd: J. Appl. Phys. 93 (2003) 1417.

タイトルに関連する用語 (8件)： 不動態化 ,  Cu ,  ダマシン ,  エレクトロマイグレーション ,  誘起 ,  ボイド ,  成長 ,  動力学