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J-GLOBAL ID：200902250824209446   整理番号：07A1013732

Metal/High-kゲートスタックの界面形態が実効仕事関数に及ぼす影響

著者 (9件)： 喜多祐起 (大阪大 大学院工学研究科) ,  吉田慎一 (大阪大 大学院工学研究科) ,  細井卓治 (大阪大 大学院工学研究科) ,  志村考功 (大阪大 大学院工学研究科) ,  渡部平司 (大阪大 大学院工学研究科) ,  白石賢二 (筑波大) ,  門島勝 (半導体先端テクノロジーズ) ,  奈良安雄 (半導体先端テクノロジーズ) ,  山田啓作 (早稲田大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 68th  号： 2  ページ： 815  発行年： 2007年09月04日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *絶縁膜 ,...
準シソーラス用語： *金属ゲート ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： ゲートスタック ,  界面 ,  形態 ,  仕事関数