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J-GLOBAL ID：200902257468852864   整理番号：09A0604786

フィルタ真空アークにより生成したアルゴン支配プラズマビーム及びその基板エッチング

Argon-dominated plasma beam generated by filtered vacuum arc and its substrate etching

著者 (12件)： TANOUE Hideto (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Toyohashi Univ. of Technol., 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi ...) ,  KAMIYA Masao (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Toyohashi Univ. of Technol., 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi ...) ,  KAMIYA Masao (Itoh Optical Industrial Co., Ltd., 3-19 Miyanari, Gamagori, Aichi 443-0041, JPN) ,  OKE Shinichiro (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Toyohashi Univ. of Technol., 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi ...) ,  SUDA Yoshiyuki (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Toyohashi Univ. of Technol., 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi ...) ,  TAKIKAWA Hirofumi (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Toyohashi Univ. of Technol., 1-1 Hibarigaoka, Tempaku, Toyohashi ...) ,  HASEGAWA Yushi (Onward Ceramic Coating Co., Ltd., Wa-13 Yoshihara, Nomi, Ishikawa 929-0111, JPN) ,  TAKI Makoto (Onward Ceramic Coating Co., Ltd., Wa-13 Yoshihara, Nomi, Ishikawa 929-0111, JPN) ,  KUMAGAI Masao (Kanagawa Industrial Technol. Res. Center, 705-1, Shimoimaizumi, Ebina, Kanagawa 243-0435, JPN) ,  KANO Makoto (Kanagawa Industrial Technol. Res. Center, 705-1, Shimoimaizumi, Ebina, Kanagawa 243-0435, JPN) ,  ISHIKAWA Takeshi (Hitachi Tool Engineering, Ltd., 13-2, Ninomi, Narita, Chiba 286-0825, JPN) ,  YASUI Haruyuki (Industrial Res. Inst. of Ishikawa, 2-1, Kuratsuki, Kanazawa, Ishikawa 929-8203, JPN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 255  号： 17  ページ： 7780-7785  発行年： 2009年06月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 機能膜堆積前の前処理として基板をエッチする新しい技術を,フィルタ真空アークプラズマを用いて開発した。Ar支配プラズマビームを,T形フィルタアーク堆積(T-FAD)システムにおいて,適切な流量のArガスを導入することにより,フィルタ炭素アークプラズマから生成した。基板テーブル前のフィルタプラズマビームから放出される発光スペクトルを測定した。基板をアルゴン支配プラズマビームによりエッチした。主な結果は,次のように要約される。バイアスを基板に印加すると,Arガスの高い流量(50ml/分)において,プラズマは基板テーブルの方に引かれ,基板は基板上での膜形成無しで十分にエッチされた。超硬合金(WC),軸受鋼及びSiウエハはアルゴン支配プラズマビームによりエッチされた。エッチング速度は基板の種類に依存した。エッチング速度が高いとき,基板の粗さは増大した。パルスバイアスは,基板表面を過剰に粗くすること無く,基板をエッチした。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *アルゴン ,  *真空アーク ,  フィルタ ,  *基板 ,  超硬合金 ,  アーク放電 ,  *前処理 ,  *DLC膜 ,  軸受鋼 ,  プラズマエッチング ,  ARE法 ,  物理蒸着
準シソーラス用語： エッチ速度 ,  シリコンウエハ ,  *フィルタ真空アーク蒸着 ,  基板バイアス

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 真空アーク ,  アルゴン ,  支配 ,  プラズマビーム ,  エッチング