任意の細孔間隔を有する規則性ナノ多孔質アルミナ膜の臨界電位陽極処理による大規模製造

CHU S. Z.; WADA K.; INOUE S.; ISOGAI M.; KATSUTA Y.; YASUMORI A.

文献

J-GLOBAL ID：200902258561303699 整理番号：06A0710981

任意の細孔間隔を有する規則性ナノ多孔質アルミナ膜の臨界電位陽極処理による大規模製造

Large-Scale Fabrication of Ordered Nanoporous Alumina Films with Arbitrary Pore Intervals by Critical-Potential Anodization

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資料名：
巻： 153 号： 9 ページ： B384-B391 発行年： 2006年
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

陽極酸化アルミナ(AAO)多孔体はナノテクノロジー用のテンプ...

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電極過程 , 固-液界面 , 塩基,金属酸化物

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