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J-GLOBAL ID：200902267517574030   整理番号：03A0256395

レーザ照射による化学蒸着プロセスにおける堆積速度の加速

Acceleration of Deposition Rates in a Chemical Vapor Deposition Process by Laser Irradiation.

著者 (3件)： MIYAZAKI H (Tohoku Univ., Miyagi, JPN) ,  KIMURA T (Tohoku Univ., Miyagi, JPN) ,  GOTO T (Tohoku Univ., Miyagi, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 42  号： 3B  ページ： L316-L318  発行年： 2003年03月15日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イットリア安定化ジルコニア(YSZ)膜をレーザ化学蒸着(CV...

シソーラス用語： *レーザCVD ,...

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分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  プラズマ診断  (BJ02090L) ,  非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K)

引用文献 (12件)：

• 1) F. N. Dultsev and A. P. Solowjev: Thin Solid Films 419 (2002) 27.
• 2) I. O. Parm, K. Kim, D. G. Lim, J. H. Lee, J. H. Heo, J. Kim, D. S. Kim, S. H. Lee and J. Yi: Sol. Energy Mater. & Sol. Cells <B>74</B> (2002) 97.
• 3) A. Crunteanu, M. Charbonnier, M. Romand, F. Vasiliu, D. Pantelica, F. Negoita and R. Alexandrescu: Surf. & Coat. Technol. <B>125</B> (2000) 301.
• 4) A. Watanabe and Y. Imai: Thin Solid Films 348 (1999) 63.
• 5) N. Kaliwoh, J.-Y. Zhang and I. W. Boyd: Appl. Surf. Sci. 186 (2002) 246.

タイトルに関連する用語 (4件)： レーザ照射 ,  化学蒸着プロセス ,  堆積速度 ,  加速