酸-塩基二段階触媒ゾル-ゲル法と中空粒子形成により作製したポリフェニルシルセスキオキサン粒子の構造

TAKAHASHI Kenji; TADANAGA Kiyoharu; HAYASHI Akitoshi; MATSUDA Atsunori; KATAGIRI Kiyofumi; TATSUMISAGO Masahiro

文献

J-GLOBAL ID：200902268445722523 整理番号：07A1107877

酸-塩基二段階触媒ゾル-ゲル法と中空粒子形成により作製したポリフェニルシルセスキオキサン粒子の構造

Structure of Polyphenylsilsesquioxane Particles Prepared by Two-Step Acid-Base Catalyzed Sol-Gel Process and Formation of Hollow Particles

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資料名：
巻： 7 号： 9 ページ： 3307-3312 発行年： 2007年09月
JST資料番号： W1351A ISSN： 1533-4880 CODEN： JNNOAR 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

酸-塩基二段階触媒ゾル-ゲル法を用いてポリフェニルシルセスキ...

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有機化合物の結晶成長

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