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J-GLOBAL ID：200902275841285000   整理番号：09A0055121

フラーレングラフト化光酸発生剤(PAG)結合重合体レジスト

Fullerene Grafted Photoacid Generator (PAG) Bound Polymer Resists

著者 (4件)： WANG Mingxing (Univ. North Carolina, North Carolina, USA) ,  LEE Cheng-Tsung (Georgia Inst. Technol. Atlanta, Georgia, USA) ,  HENDERSON Clifford L. (Georgia Inst. Technol. Atlanta, Georgia, USA) ,  GONSALVES Kenneth E (Univ. North Carolina, North Carolina, USA)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 21  号： 6  ページ： 747-751  発行年： 2008年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2種の高分子フラーレン誘導体およびヒドロキシスチレン(HS),メタクリル酸2-エチル-2-アダマンチル(EM),メタクリル酸3-ヒドロキシ-1-アダマンチル(HM)に基づく対応するフラーレングラフト化,PAG結合重合体レジスト(HS-EM-HM/Fulle-PAG)を調製し,特性解析した。これらの重合体の予備的リソグラフィー性能評価を密着プリンタ,e-ビームにより行い,構造-機能関係についてもまた研究した。結果から,熱安定性とガラス転移点は増すが感受性と分解能は低下することが判明した。リソグラフィー特性に対する微細構造改良,組成効果,露光条件についてのさらなる研究を行う予定である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *光酸発生剤 ,  *化学増幅レジスト ,  極端紫外線 ,  *フラーレンC60 ,  化学修飾 ,  ラジカル重合 ,  共重合 ,  多元共重合体 ,  スルホン酸 ,  スルホニウム ,  フォトリソグラフィー ,  熱安定性 ,  ガラス転移点 ,  感度 ,  分解能 ,  脂肪族アルデヒド

分類 (2件)： 共重合  (CG04030D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (6件)： 4-(アリルオキシ)ベンズアルデヒド ,  4-ヒドロキシスチレン ,  メタクリル酸2-エチル-2-アダマンチル ,  ヘプタアルデヒド ,  メタクリル酸3-ヒドロキシ-1-アダマンチル ,  メタクリル酸3,4,4-トリフルオロ-4-スルホナトブチル

引用文献 (15件)：

• International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) 2005, Lithography, http://public. itrs.net/.
• R. H. Sttlen, D. W. Sweeney, Extreme ultraviolet lithography. IEEE Journal of Quantum Electronics, 35(1999), 694.
• K. L. Covert, D. J. Russell, J Appl. Polym. Sci,.49(1993), 657.
• M. Wang, N. D. Jarnagin, W. Yueh, J. M. Roberts, K. E, Gonsalves, J. Mater. Chem., 16(2006), 3701.
• M. Wang, K. E. Gonsalves, W. Yueh, J. M. Roberts, Macromol. Rapid Commun., 27(2006), 1590.

タイトルに関連する用語 (3件)： 光酸発生剤 ,  重合体 ,  レジスト