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J-GLOBAL ID：200902281423015706   整理番号：05A0996452

210°C以下でのゾル-ゲル法による水熱処理によるBaTiO₃薄膜の低温調製

A Low Temperature Preparation of BaTiO₃ Thin Film by Sol-Gel-Hydrothermal Treatment below 210°C

著者 (5件)： NAOYAMA Takuji (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SAKIOKA Youji (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NODA Minoru (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  OKUYAMA Masanori (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SAITO Keisuke (BRUKER AXS K.K., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 44  号： 9B  ページ： 6873-6877  発行年： 2005年09月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 210°Cより低温でTiO₂ゲル膜の水熱...

シソーラス用語： *ゾル-ゲル法 ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (15件)：

• 1) Z. Wei, K. Yamashita and M. Okuyama: Jpn. J. Appl. Phys. 40 (2001) 5539.
• 2) T. Morita and Y. Cho: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) 6535.
• 3) T. Morita and Y. Cho: Appl. Phys. Lett. 85 (2004) 2331.
• 4) Z. Wei, H. Xu, K. Yamashita and M. Okuyama: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 4217.
• 5) Z. Wei, M. Noda and M. Okuyama: Integr. Ferroelectr. 52 (2003) 2003.

タイトルに関連する用語 (6件)： ゾル-ゲル法 ,  水熱処理 ,  BaTiO3 ,  薄膜 ,  低温 ,  調製