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J-GLOBAL ID:200902289902135547   整理番号:08A0575251

バルク敏感x線光電子分光法において観測される透明な非晶質酸化物半導体,In-Ga-Zn-O,におけるサブギャップ状態

Subgap states in transparent amorphous oxide semiconductor, In-Ga-Zn-O, observed by bulk sensitive x-ray photoelectron spectroscopy
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資料名:
巻: 92  号: 20  ページ: 202117  発行年: 2008年05月19日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本稿では,キャリヤ濃度の高い非晶質In-Ga-Zn-O薄膜の電子状態を,光吸収および硬x線光電子分光法(HX-PES)によって研究した結果を報告する。Hall移動度の異なる薄膜を準備し,それらに対するアニーリングの効果を研究した。HX-PESスペクトルから,Fermi端構造と付加的なサブギャプの状態密度(DOS)を解析することができた。光学スペクトルにおいて観測されるテイル型構造は,価電子帯の頂上(VBM)近傍におけるサブギャップのDOS(≫1020cm-3)に起因することが分かった。VBM近傍におけるサブギャップDOSの存在はIn-Ga-Zn-Oから成る薄膜トランジスタが,オフ状態において飽和し難く,また反転pチャンネルモードで動作し難い理由である。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体結晶の電子構造 

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