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J-GLOBAL ID：200902290803508046   整理番号：07A0716195

酸化インジウムすず基板と疎水性-親水性パターン形成層を併用したゾル-ゲル式電着塗装プロセスによる凸型ポリベンジルシルセスキオキサン製微細パターン形成法

Fabrication of convex-shaped polybenzylsilsesquioxane micropatterns by the electrophoretic sol-gel deposition process using indium tin oxide substrates with a hydrophobic-hydrophilic-patterned surface

著者 (6件)： TAKAHASHI Kenji (Osaka Prefectural Univ., Osaka, JPN) ,  TADANAGA Kiyoharu (Osaka Prefectural Univ., Osaka, JPN) ,  MATSUDA Atsunori (Osaka Prefectural Univ., Osaka, JPN) ,  HAYASHI Akitoshi (Osaka Prefectural Univ., Osaka, JPN) ,  TATSUMISAGO Masahiro (Osaka Prefectural Univ., Osaka, JPN) ,  MATSUDA Atsunori (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
資料名： Journal of Sol-Gel Science and Technology  (Journal of Sol-Gel Science and Technology)
巻： 43  号： 1  ページ： 85-91  発行年： 2007年07月 
JST資料番号： W0812A  ISSN： 0928-0707  CODEN： JSGTEC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ゾル-ゲル式微細パターン形成技術は光学格子や光導波路など微細...

シソーラス用語： ゾル-ゲル法 ,...
準シソーラス用語： ITO【固溶体】 ,...

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分類 (3件)： 無機重合体  (YH07140R) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K)

タイトルに関連する用語 (10件)： 酸化インジウムすず ,  疎水性 ,  親水性 ,  形成層 ,  併用 ,  ゾル-ゲル ,  電着塗装 ,  プロセス ,  凸型 ,  微細パターン形成