文献

J-GLOBAL ID：200902292772886201   整理番号：04A0072505

高周波容量結合SiF₄プラズマ中のSi原子における並進温度と絶対密度に及ぼす駆動周波数の影響

Effects of Driving Frequency on the Translational Temperature and Absolute Density of Si Atoms in Very High Frequency Capacitively Coupled SiF₄ Plasmas

著者 (7件)： OHTA T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  HORI M (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ISHIDA T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  GOTO T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ITO M (Wakayama Univ., Wakayama, JPN) ,  KAWAKAMI S (Tokyo Electron Tohoku Ltd., Kanagawa, JPN) ,  ISHII N (Tokyo Electron Ltd., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 42  号： 12B  ページ： L1532-L1534  発行年： 2003年12月15日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記における駆動VHF周波数(27又は60MHz)の影響を調...

シソーラス用語： *プラズマ ,...
準シソーラス用語： 容量結合プラズマ

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分類 (1件)： プラズマ診断  (BJ02090L)

引用文献 (8件)：

• 1) T. Nakano and H. Sugai: J. Phys. D 26 (1993) 1909.
• 2) M. Surendra and D. B. Graves: Appl. Phys. Lett. 59 (1991) 2091.
• 3) T. Ohta, K. Hara, T. Ishida, M. Hori, T. Goto, M. Ito, S. Kawakami and N. Ishii: J. Appl. Phys. 94 (2003) 1428.
• 4) M. Nakamura, M. Hori, T. Goto, M. Ito and N. Ishii: Jpn. J. Appl. Phys. 40 (2001) 4730.
• 5) T. Tanaka, M. Hiramatsu, M. Nawata, A. Kono and T. Goto: J. Phys. D 27 (1994) 1660.

タイトルに関連する用語 (6件)： 高周波 ,  容量結合 ,  プラズマ ,  Si原子 ,  並進温度 ,  密度