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J-GLOBAL ID：200902294722189006   整理番号：09A1043032

硬X線励起光電子分光(HXPES)ならびにX線吸収微細構造(XAFS)を用いた有機ELにおける三酸化モリブデン正孔注入層の解析

著者 (4件)： 塩沢一成 ,  笹川知由 ,  松島敏則 ,  村田英幸
資料名： 光化学討論会講演要旨集  (Annual Meeting on Photochemistry)
巻： 2009  ページ： 350  発行年： 2009年09月16日 
JST資料番号： L0850A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化モリブデン ,  電極 ,  *複合膜 ,  シンクロトロン放射 ,  X線光電子分光法 ,  XAFS ,  *キャリア注入 ,  *エレクトロルミネセンス ,  *正孔注入 ,  *有機EL ,  *酸化モリブデン(VI)
準シソーラス用語： *三酸化モリブデン ,  ITO電極

分類 (2件)： 電気光学効果,磁気光学効果  (BM08020L) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： N,N′-ジフェニル-N,N′-ビス(1-ナフチル)-1,1′-ビフェニル-4,4′-ジアミン

タイトルに関連する用語 (9件)： 硬X線 ,  励起 ,  光電子分光 ,  X線吸収微細構造 ,  XAFS ,  有機EL ,  三酸化モリブデン ,  正孔注入 ,  解析