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J-GLOBAL ID：200902296014974120   整理番号：06A0073306

rf反応スパッタリングにより作製したTi-Si-N被覆の微細構造及び特性に及ぼすターゲット材料の影響

Influence of Target Material on the Microstructure and Properties of Ti-Si-N Coatings Prepared by r.f.-Reactive Sputtering

著者 (6件)： NOSE Masateru (Takaoka National Coll., Takaoka, JPN) ,  DEGUCHI Yutaka (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  HONBO Eiji (Toyama Industrial Res. Center, Takaoka, JPN) ,  CHIOU Wen-An. (Univ. California, CA, USA) ,  MAE Takehiko (Toyama National Coll. of Technol., Toyama, JPN) ,  NOGI Kiyoshi (Osaka Univ., Ibaraki, JPN)
資料名： Materials Transactions  (Materials Transactions)
巻： 46  号： 8  ページ： 1911-1917  発行年： 2005年08月20日 
JST資料番号： G0668A  ISSN： 1345-9678  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： rf反応スパッタリングにより作製したTi-Si-Nの微細構造...

シソーラス用語： RFスパッタリング ,...
準シソーラス用語： Si₃N₄

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分類 (1件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

引用文献 (24件)：

• 1) William D. Sproul: J. Vac. Sci. Technol. A4 (1986) 2874–2878.
• 2) J. Vetter and R. Rochotzki: Thin Solid Films 192 (1990) 253–261.
• 3) A. Mumtaz and W. H. Class: J. Vac. Sci. Technol. 20 (1982) 345–348.
• 4) M. Nose, T. Nagae, M. Yokota, S. Saji, M. Zhou and M. Nakada: Surf. Coat. Technol. 116–119 (1999) 296–301.
• 5) S. Vep\\\\v{r}ek and S. Reiprich: Thin Solid Films 268 (1995) 64–71.

タイトルに関連する用語 (7件)： RF ,  反応スパッタリング ,  作製 ,  Ti ,  Si ,  微細構造 ,  ターゲット材料