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J-GLOBAL ID：200902296798748473   整理番号：04A0429616

光またはプラズマ励起酸素原子による低温酸化と多結晶Si薄膜トランジスタへの応用

著者 (5件)： 中田行彦 (立命館アジア太平洋大) ,  東和文 (液晶先端技術開発セ) ,  岡本哲也 (液晶先端技術開発セ) ,  後藤真志 (液晶先端技術開発セ) ,  佐々木厚 (液晶先端技術開発セ)
資料名： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 47  号： 5  ページ： 357-363  発行年： 2004年05月20日 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高品質のSiO₂膜とSiO<sub>2...

シソーラス用語： 多結晶 ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  トランジスタ  (NC03070N)

引用文献 (25件)：

• 1) 中田行彦, 東和文, 岡本哲也, 後藤真志, 佐々木厚2003年春季第50回応用物理学関係連合講演会シンポジウム「最新の酸化膜作製技術と応用」.
• 2) 岡本哲也, 後藤真志, 東 和文, 中田行彦 : 2002年春季第49回応用物理学関係連合講演会.
• 3) 中田行彦, 岡本哲也, 後藤真志, 東 和文 : 電子情報通信学会シンポジウム (2002).
• 4) Y. Nakata, T. Okamoto, T. Hamada, T. Itoga and Y. Ishii : IEICE Transactions Electronics Vol. E85-C, No. 11 (2002) 1849.
• 5) 中田行彦, 岡本哲也, 糸賀隆志, 浜田敏正, 石井裕 : 電子情報通信学会論文誌C, Vol.J85-C No.8 (2002) 666.

タイトルに関連する用語 (7件)： プラズマ ,  励起 ,  酸素原子 ,  低温酸化 ,  多結晶Si ,  薄膜トランジスタ ,  応用