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J-GLOBAL ID：200902297423086780   整理番号：08A1136996

JRR-3における12インチNTDシリコン照射方法の検討

Investigation of the Irradiation Method for 12 inch NTD Silicon in JRR-3

著者 (4件)： 米田政夫 (日本原子力研究開発機構 東海研究開発セ 原子力科研) ,  山本和喜 (日本原子力研究開発機構 東海研究開発セ 原子力科研) ,  八木理公 (日本原子力研究開発機構 東海研究開発セ 原子力科研) ,  佐川尚司 (日本原子力研究開発機構 東海研究開発セ 原子力科研)
資料名： 日本原子力研究開発機構JAEA-Technology
ページ： 84P  発行年： 2008年10月 
JST資料番号： L2148A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 現在,NTD(Neutron Transmutation Doping:中性子核変換ドーピング)で用いるシリコンの直径は6インチが主流であるが,12インチのシリコンを用いることにより,シリコンデバイスの製造コスト低減化を図ることができる。本報告書では,現在6インチNTDシリコンの生産が行われているJRR-3において,12インチNTDシリコンの均一な照射を行うための手法について,中性子輸送計算モンテカルロコードMVPを用いた検討を行った。12インチNTDシリコン照射では,熱中性子フィルターを用いないと,径方向のドーピング分布の偏差は1.17となる。そこで,径方向に均一(偏差が1.10以下)なドーピングが得られるように熱中性子フィルターを使用することとした。検討の結果,厚さ2mmの天然ボロン濃度1.0%含有アルミニウムを用いると,径方向のドーピング分布の偏差が1.10以下となる見通しを得た。(著者抄録)

シソーラス用語： *研究用原子炉 ,  *核変換 ,  *ドーピング ,  *ケイ素

分類 (1件)： 原子炉のその他への用途・利用  (MD07040K)

タイトルに関連する用語 (2件)： インチ ,  シリコン