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J-GLOBAL ID：200902298320346186   整理番号：05A0588838

原子間力顕微鏡によって解析したArFエキシマレジスト表面上のナノ規模気泡の凝縮挙動

Condensation Behavior of Nanoscale Bubbles on ArF Excimer Resist Surface Analyzed by Atomic Force Microscope

著者 (1件)： KAWAI Akira (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 18  号： 3  ページ： 349-354  発行年： 2005年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ArFエキシマレジスト膜表面に形成したナノ規模気泡(NB)は...

シソーラス用語： *化学増幅レジスト ,...
準シソーラス用語： 液浸リソグラフィー

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

引用文献 (8件)：

• 1. A. Kawai, Ext. Abstr. 51st Spring Meet. Japan Society of Applied Physics and Related Societies (2004) 29a-G-9 p777.
• 2. A. Kawai, A. Ishikawa. Ext. Abstr. 52nd Spring Meet. Japan Society of Applied Physics and Related Societies (2005) 31p-YW-16 p840.
• 3. H. Endo and A. Kawai, J. Photopolymer Sci. Technol., 17 (2004) 105.
• 4. A. Kawai, M. Hirano, T. Niiyama, J.PhotopolymerSci. Technol., 17 (2004) 461.
• 5. G. Binnig, C. F. Quate and Ch. Gerber, Phys. Rev. Lett. 56 (1986) 930.

タイトルに関連する用語 (9件)： 原子間力顕微鏡 ,  解析 ,  ARF ,  エキシマ ,  レジスト ,  規模 ,  気泡 ,  凝縮 ,  挙動