特許
J-GLOBAL ID：200903000027740281

合成石英ガラスの製造方法

発明者：
松尾 浩司

松尾 浩司 について

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大塚 久利

大塚 久利 について

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代田 和雄

代田 和雄 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小島 隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-344826
公開番号（公開出願番号）：特開2002-154827
出願日： 2000年11月13日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：
【要約】【解決手段】 酸素ガス、水素ガス及びシリカ製造原料ガスをバーナーから反応域に供給し、この反応域においてシリカ製造原料ガスの火炎加水分解によりシリカ微粒子を生成させると共に、上記反応域に回転可能に配置された合成石英ガラスインゴットに上記シリカ微粒子を堆積、溶融させて石英ガラスを成長させる合成石英ガラスの製造方法において、上記合成石英ガラスインゴットの成長部の表面温度を2000°C以上にすることを特徴とする合成石英ガラスの製造方法。【効果】 本発明によれば、石英ガラスインゴットの成長部の表面温度を2000°C以上にすることにより、耐紫外線性が良好でかつ透過率の高い合成石英ガラスを製造することができる。
請求項（抜粋）：
酸素ガス、水素ガス及びシリカ製造原料ガスをバーナーから反応域に供給し、この反応域においてシリカ製造原料ガスの火炎加水分解によりシリカ微粒子を生成させると共に、上記反応域に回転可能に配置された合成石英ガラスインゴットに上記シリカ微粒子を堆積、溶融させて石英ガラスを成長させる合成石英ガラスの製造方法において、上記合成石英ガラスインゴットの成長部の表面温度を2000°C以上にすることを特徴とする合成石英ガラスの製造方法。
IPC (5件)：
C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  G02B 1/00 ,  G02B 3/00 ,  G03F 1/14
FI (6件)：
C03B 8/04 H ,  C03B 8/04 E ,  C03B 20/00 Z ,  G02B 1/00 ,  G02B 3/00 Z ,  G03F 1/14 B
Fターム (3件)：
2H095BC27 ,  4G014AH11 ,  4G014AH12
引用特許：
審査官引用 (4件)
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