特許
J-GLOBAL ID：200903000028405109

水素ガスの製造方法および水素ガスの製造設備

発明者：
山下 直彦

山下 直彦 について


出願人/特許権者：
日本エア・リキード株式会社

日本エア・リキード株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 崇生 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-181443
公開番号（公開出願番号）：特開2003-002601
出願日： 2001年06月15日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：
【要約】【課題】 液化天然ガスから水素ガスを製造して低温下で貯蔵する際に、原料の寒冷を利用して貯蔵のための冷却動力を軽減することができる水素ガスの製造方法および水素ガスの製造設備を提供する。【解決手段】 液化天然ガスを昇圧させる昇圧装置1と、天然ガスを反応原料として水素ガスを生成させる水素ガス生成装置10と、水素ガスを低温下で貯蔵する水素貯蔵装置20と、前記昇圧された液化天然ガスおよび前記生成した水素ガスを導入して両者を熱交換させ、予冷された水素ガスを前記水素貯蔵装置20に供給する熱交換器2と、その熱交換器2で加温された液化天然ガスを気化してその少なくとも一部を前記水素ガス生成装置10に供給する蒸発器4とを備える水素ガスの製造設備を用いる。
請求項（抜粋）：
液化天然ガスを昇圧する工程と、昇圧した液化天然ガスを熱交換器に導入して熱交換により自己を加温する工程と、加温した液化天然ガスを気化させる工程と、気化した天然ガスの少なくとも一部を反応原料として水素ガス生成装置に供給して水素ガスを生成させる工程と、生成した水素ガスを前記熱交換器に導入して前記液化天然ガスとの熱交換により自己を-50°C以下に予冷する工程と、予冷した水素ガスを水素貯蔵装置に供給して低温下で貯蔵する工程とを含む水素ガスの製造方法。
IPC (4件)：
C01B 3/00 ,  C01B 3/38 ,  F17C 9/04 ,  F17D 1/02
FI (4件)：
C01B 3/00 Z ,  C01B 3/38 ,  F17C 9/04 ,  F17D 1/02
Fターム (10件)：
3E073DB05 ,  3J071AA23 ,  3J071BB02 ,  3J071BB14 ,  3J071CC01 ,  3J071CC11 ,  3J071DD28 ,  3J071DD29 ,  3J071FF15 ,  4G040AB01
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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