特許
J-GLOBAL ID：200903000043192456
構造傾斜銅箔及びその作製方法、並びにエッチング方法、銅箔パターン、保存方法
発明者：
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-357561
公開番号（公開出願番号）：特開2004-190073
出願日： 2002年12月10日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：
【課題】エッチングファクターの高いフォトエッチングを可能とする銅箔及びその作製方法、エッチング方法、銅箔パターン、保存方法を提供すること。【解決手段】低い電流密度から高い電流密度へとめっき電流密度を連続的に制御しためっきによって、昜エッチング構造を有する銅箔15から難エッチング構造を有する銅箔13へと異なった構造を有する銅箔が連続的又は段階的に形成されたこと。難エッチング構造を有する銅箔13側からエッチングを行い、構造傾斜銅箔のパターンを形成すること。パターンに170°C、30分以上の熱処理を施し、構造傾斜の状態を緩和させた銅箔パターン。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
低い電流密度から高い電流密度へとめっき電流密度を連続的に制御しためっきによって、昜エッチング構造を有する銅箔から難エッチング構造を有する銅箔へと異なった構造を有する銅箔が連続的に形成されたことを特徴とする構造傾斜銅箔。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
4K024AA09
, 4K024AB03
, 4K024BA08
, 4K024BB11
, 4K024CA06
