特許
J-GLOBAL ID：200903000052186191
基板処理装置及び基板処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-063015
公開番号（公開出願番号）：特開2003-264132
出願日： 2002年03月08日
公開日（公表日）： 2003年09月19日
要約：
【要約】【課題】 基板に形成されるパターンの線幅均一性を向上させること。【解決手段】 現像液供給ノズル20が基板Wの一端側から他端側に移動して、基板Wの主面全体に現像液を供給する。所要の現像処理時間経過後、リンス液供給ノズル40が基板Wの一端側から他端側に移動して、基板Wの主面全体に現像液を供給する。リンス液供給ノズル40の移動速度V2を、現像液供給ノズル20の移動速度V1よりも速くすることにより、リンス液滴下によるゆらぎの影響で現像反応が促進され易い部位(走査方向A下流側)では、実際の現像時間を短くする。
請求項（抜粋）：
基板を保持する基板保持手段と、基板径寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の幅寸法の吐出口を有する現像液供給ノズルと、前記現像液供給ノズルを、前記基板保持手段により保持された基板の一端側から他端側に向けて移動させる第1移動手段と、基板径寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の幅寸法の吐出口を有するリンス液供給ノズルと、前記リンス液供給ノズルを、前記基板の前記一端側から前記他端側に向けて移動させる第2移動手段と、前記現像液供給ノズルを前記基板の前記一端側から前記他端側に向けて第1移動速度パターンで移動させてその基板の主面に現像液を供給させた後、前記リンス液供給ノズルを前記基板の前記一端側から前記他端側に向けて第2移動速度パターンで移動させてその基板の主面にリンス液を供給させる制御手段と、を備え、前記第1移動速度パターンと前記第2移動速度パターンとは、前記基板の各部における現像時間をその一端部から他端部に向うに従って短くするように設定された、基板処理装置。
Fターム (2件)：
引用特許：
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