特許
J-GLOBAL ID：200903000072811351
洗浄方法及び洗浄装置及び電子写真感光体及び電子写真感光体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西山 恵三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-351375
公開番号（公開出願番号）：特開2000-237704
出願日： 1999年12月10日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
要約：
【要約】【課題】 被洗浄物を効率的に洗浄する方法を提供する。特に電子写真感光体用の基体の洗浄に関しては画像欠陥及び濃度むらの無い均一で高品位の画像を得ることができる製造方法を提供する。【解決手段】 被洗浄物を洗浄する際に、該被洗浄物を洗浄液に浸漬させている間の液循環量と引き上げ時の液循環量を変化させ且つ引き上げ時に洗浄工程で使用している洗浄液を該被洗浄物の表面にシャワーしながら引き上げる。特に珪素、鉄、銅を含むアルミニウム基体にプラズマCVD法で機能性膜を形成する工程を含む電子写真感光体製造方法に於いて、前記堆積膜を形成する工程の前に基体表面の油分を脱脂洗浄工程で基体を浸漬させる間の液循環量と引き上げ時の液循環量を変化させると共に引き上げ時に脱脂洗浄工程で使用する洗浄液を基体表面をシャワーしながら引き上げる。また次のリンス工程に於いてインヒビターを含んだ水によりAl-Si-O皮膜の形成を行なう。
請求項（抜粋）：
槽に収容された液をオーバーフローさせる被洗浄体の洗浄方法において、前記液が前記槽からオーバーフローしている状態で、前記被洗浄体を前記槽に収容された前記液から引き上げることで前記被洗浄体を洗浄するか、あるいは、オーバーフローする前記液の流量を大きくして、前記被洗浄体を前記液から引き上げることで前記被洗浄体を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
IPC (4件)：
B08B 3/04
, B08B 3/08
, G03G 5/00 101
, G03G 5/10
B08B 3/04 Z
, B08B 3/08 Z
, G03G 5/00 101
, G03G 5/10 B
