特許
J-GLOBAL ID：200903000075168727

フォトレジスト現像廃液の再生処理装置

発明者：
菅原 広

菅原 広 について

, 
田嶋 義宣

田嶋 義宣 について


出願人/特許権者：
オルガノ株式会社

オルガノ株式会社 について


代理人 (1件)： 三浦 進二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-411490
公開番号（公開出願番号）：特開2005-175118
出願日： 2003年12月10日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：
【課題】オンオフ運転状態などとなっても、再生現像液の品質不良の問題が生じず、後段にCP等の精製装置が設置されるとしてもその負荷上昇といった問題が生じないフォトレジスト現像廃液の再生処理装置を提供する。【解決手段】このフォトレジスト現像廃液の再生処理装置は、フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを少なくとも含む現像廃液又は該現像廃液に由来する処理液からテトラアルキルアンモニウムイオンを分離回収する一段又は多段の分離回収装置(例えば、NF膜分離装置や電気透析処理装置)、および、該分離回収装置の該一段からの分離回収液又は該多段の少なくとも第一段からの分離回収液を系外にブローする機構及び/又は該分離回収装置の前段に戻す機構を包含する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを少なくとも含む現像廃液又は該現像廃液に由来する処理液からテトラアルキルアンモニウムイオンを分離回収する一段又は多段の分離回収装置、および、該分離回収装置の該一段からの分離回収液又は該多段の少なくとも第一段からの分離回収液を系外にブローする機構及び/又は該分離回収装置の前段に戻す機構を包含することを特徴とするフォトレジスト現像廃液の再生処理装置。
IPC (7件)：
H01L21/027 ,  B01D61/14 ,  B01D61/44 ,  B01D61/58 ,  C02F1/44 ,  C02F1/469 ,  G03F7/30
FI (7件)：
H01L21/30 569A ,  B01D61/14 500 ,  B01D61/44 500 ,  B01D61/58 ,  C02F1/44 F ,  G03F7/30 501 ,  C02F1/46 103
Fターム (21件)：
2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096GA09 ,  2H096LA25 ,  4D006GA07 ,  4D006GA17 ,  4D006KA52 ,  4D006KA54 ,  4D006KA55 ,  4D006MA12 ,  4D006PA04 ,  4D006PB08 ,  4D006PC01 ,  4D061DA08 ,  4D061DB18 ,  4D061DC09 ,  4D061EA09 ,  4D061EB13 ,  4D061FA09 ,  5F046LA12 ,  5F046LA19
引用特許：
出願人引用 (4件)
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