特許
J-GLOBAL ID：200903000163579540

スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法

発明者：
高見 英生

高見 英生 について

, 
矢作 政隆

矢作 政隆 について


出願人/特許権者：
株式会社日鉱マテリアルズ

株式会社日鉱マテリアルズ について


代理人 (1件)： 小越 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-039131
公開番号（公開出願番号）：特開2005-232471
出願日： 2004年02月17日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：
【要約書】【課題】 ZnO系酸化物を含む材料を採用するとともに、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難く、密着性が良好で、尚且つ高速成膜可能であるスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに光情報記録媒体用薄膜(特に保護膜としての使用)及びその製造方法に関するものであり、これによって、光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善することを目的とする。 【解決手段】 ZnOを主成分とするホモロガス構造を有する酸化物に、Ta、Yの何れか1種又は2種の元素の酸化物を含有する材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。(In2O3)(ZnO)m、m≧1のホモロガス構造を有し、これにTa、Yの何れか1種又は2種の元素の酸化物を含有する材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。
請求項（抜粋）：
ZnOを主成分とするホモロガス構造を有する酸化物に、Ta、Yの何れか1種又は2種の元素の酸化物を含有する材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。
IPC (4件)：
C23C14/34 ,  C04B35/495 ,  G11B7/24 ,  G11B7/26
FI (5件)：
C23C14/34 A ,  G11B7/24 534K ,  G11B7/24 535F ,  G11B7/26 531 ,  C04B35/00 J
Fターム (23件)：
4G030AA12 ,  4G030AA21 ,  4G030AA32 ,  4G030AA34 ,  4G030AA36 ,  4G030BA01 ,  4G030BA16 ,  4K029AA11 ,  4K029BA49 ,  4K029BC01 ,  4K029BC08 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC34 ,  4K029DC35 ,  5D029LA14 ,  5D029LB01 ,  5D029LB03 ,  5D121AA04 ,  5D121EE03 ,  5D121EE09
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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