特許

J-GLOBAL ID：200903000242820806

共重合体およびそれを用いた感放射線性樹脂組成物

発明者： 松村 信司 ,  永井 智樹 ,  甲斐 敏之
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-045830
公開番号（公開出願番号）：特開2005-232396
出願日： 2004年02月23日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：

【課題】 放射線照射、特に電子線に感応する化学増幅型レジストとして、解像度、感度およびラインエッジラフネス性に優れた感放射線性樹脂組成物、および該組成物の樹脂成分として有用な新規な共重合体を提供する。【解決手段】 下記式(1)で表される保護基を含む繰返し単位を共重合成分とし、ポリスチレン換算重量平均分子量が3,000〜100,000である。【化1】 式(1)において、R1は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、R2およびR3はそれぞれ水素原子または1価の有機基を表し、かつR2およびR3の少なくとも1つは1価の有機基であり、lは1〜3の整数である。【選択図】 無

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される保護基を含む繰返し単位を共重合成分とし、ポリスチレン換算重量平均分子量が3,000〜100,000である共重合体。

IPC (4件)：

C08F8/00 ,  C08F212/14 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4件)：

C08F8/00 ,  C08F212/14 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (41件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025FA17 ,  4J100AB02Q ,  4J100AB03Q ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02H ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA20H ,  4J100BA20P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC43H ,  4J100BC43P ,  4J100BC53H ,  4J100BC53Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100HA55 ,  4J100HA61 ,  4J100HC08 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特公平2-27660号公報
  
• 放射線感受性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-192546   出願人：オリン・マイクロエレクトロニツク・ケミカルズ・インコーポレイテツド
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-115253   出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (4件)

• ポジティブフォトレジスト製造用樹脂及びこれを含有する化学増幅型ポジティブフォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-251648   出願人：クンホセオキュホアハクジュシクヘサ
• 狭分散性のポリ(p-ヒドロキシ-α-メチルスチレン)およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-122141   出願人：三井化学株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-331723   出願人：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• 感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-263211   出願人：東京応化工業株式会社