特許

J-GLOBAL ID：200903000417218071

金属亜鉛含有スパッタリングターゲット

発明者： 宇都野 太 ,  井上 一吉
出願人/特許権者： 出光興産株式会社
代理人 (3件)： 渡辺 喜平 ,  田中 有子 ,  佐藤 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-325373
公開番号（公開出願番号）：特開2009-144226
出願日： 2007年12月18日
公開日（公表日）： 2009年07月02日
要約：

【課題】ターゲット強度に優れ、スパッタ速度が速いスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】金属亜鉛、酸化亜鉛及び酸化インジウムを含むスパッタリングターゲットであって、前記金属亜鉛がスパッタリングターゲット中で分散しているスパッタリングターゲット。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

金属亜鉛、酸化亜鉛及び酸化インジウムを含むスパッタリングターゲットであって、 前記金属亜鉛がスパッタリングターゲット中で分散しているスパッタリングターゲット。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  C04B 35/00 ,  C04B 35/453

FI (3件)：

C23C14/34 A ,  C04B35/00 J ,  C04B35/00 P

Fターム (22件)：

4G030AA32 ,  4G030AA34 ,  4G030AA61 ,  4G030BA02 ,  4G030BA15 ,  4G030CA04 ,  4G030CA08 ,  4G030GA03 ,  4G030GA09 ,  4G030GA11 ,  4G030GA22 ,  4G030GA24 ,  4G030GA27 ,  4G030GA29 ,  4G030GA31 ,  4G030GA32 ,  4K029AA09 ,  4K029BA45 ,  4K029BC09 ,  4K029CA06 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 導電性透明基材の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-132255   出願人：出光興産株式会社
• スパッタリングターゲット及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-318230   出願人：株式会社日鉱マテリアルズ
• スパッタリングターゲット及び焼結体それらを利用して製造した導電膜。
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-226429   出願人：出光興産株式会社
• スパッタリングターゲット及びそれを利用した導電膜の製造方法及びその製造方法で成膜した透明導電膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-180897   出願人：出光興産株式会社