特許
J-GLOBAL ID：200903000434403168

マルチレンズ型の静電レンズ、これを用いた電子ビーム描画装置および荷電ビーム応用装置ならびにこれら装置を用いたデバイス製造方法

発明者：
奥貫 昌彦

奥貫 昌彦 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-295698
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118491
出願日： 1999年10月18日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：
【要約】【課題】 ビーム位置の安定性や集束特性を向上させ、静電レンズ相互間のクロストークを防止し、静電レンズの集積度の向上を図る。【解決手段】 ビーム軸11の周りに配置した電極6、および前記電極に接合させて前記電極のビーム軸方向における両側に配置した高抵抗部分5により形成した複数のレンズ開口9の内壁と、前記電極とはビーム軸方向の反対側において前記高抵抗部分に接合した低抵抗部分7、8とを備え、これにより複数の静電レンズを具備する。
請求項（抜粋）：
ビーム軸の周りに配置した電極、および前記電極に接合させて前記電極のビーム軸方向における両側に配置した高抵抗部分により形成した複数のレンズ開口の内壁と、前記電極とはビーム軸方向の反対側において前記高抵抗部分に接合した低抵抗部分とを備え、これにより複数の静電レンズを具備することを特徴とするマルチレンズ型の静電レンズ。
IPC (4件)：
H01J 7/12 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
H01J 7/12 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 B
Fターム (5件)：
2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C034BB02 ,  5F056EA05
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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