特許
J-GLOBAL ID:200903000940511653
基板処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井上 俊夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-211532
公開番号(公開出願番号):特開2002-026107
出願日: 2000年07月12日
公開日(公表日): 2002年01月25日
要約:
【要約】【課題】 検査ステーションを処理ステーションに接続することにより、基板処理から検査に亘る作業の簡便化と、時間の短縮とを図ること。【解決手段】 カセットステーションS1と、塗布ユニット42と現像ユニット41とを備えた処理ステーションS3と、膜厚検査装置31と欠陥検査装置32とを備えた検査ステーションS2とを、カセットステーションS1のカセット22の配列方向にほぼ直交する方向に、前記検査ステーションS2が前記カセットステーションS1と処理ステーションS3との間に設けられるように配置する。このような構成では、検査ステーションを処理ステーションに接続し、これらステーションS2,S3間のウエハWの搬送を自動でおこなっているので、基板処理から検査に亘る作業の簡便化と、時間の短縮とを図ることができる。
請求項(抜粋):
複数の基板を収納した基板カセットを載置する載置部と、この載置部に載置された基板カセットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段と、を含むカセットステ-ションと、前記カセットステーションから搬送された基板に対して処理液を塗布する基板処理部を含む処理ステ-ションと、を有し、前記処理ステ-ションに接続され、前記基板に対して、前記基板処理部の処理状態を検査する検査部を含む検査ステーションと、前記処理ステーションと検査ステーションとの間で基板の受け渡しをする基板搬送手段と、を含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/68
, G03F 7/16 501
, H01L 21/027
FI (3件):
H01L 21/68 A
, G03F 7/16 501
, H01L 21/30 562
Fターム (38件):
2H025AA18
, 2H025AB16
, 2H025AB20
, 2H025EA05
, 2H025EA10
, 5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031DA01
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA03
, 5F031GA47
, 5F031GA48
, 5F031GA49
, 5F031HA59
, 5F031JA02
, 5F031JA04
, 5F031JA06
, 5F031JA13
, 5F031JA32
, 5F031JA33
, 5F031MA02
, 5F031MA03
, 5F031MA09
, 5F031MA24
, 5F031MA26
, 5F031MA33
, 5F031NA03
, 5F031NA16
, 5F046AA21
, 5F046CD01
, 5F046CD05
, 5F046JA04
, 5F046JA21
, 5F046LA01
引用特許:
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