特許
J-GLOBAL ID：200903001156072224

基板処理装置及び基板処理方法

発明者：
佐田 徹也

佐田 徹也 について

, 
緒方 庸元

緒方 庸元 について

, 
永田 篤史

永田 篤史 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 木下 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-157974
公開番号（公開出願番号）：特開2009-302461
出願日： 2008年06月17日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：
【課題】平流しの搬送ライン上で被処理基板に供給した第1の処理液を分別回収して第2の処理液に置き換える動作を効率よくスムースに行い、現像斑の発生を抑制する。【解決手段】水平な搬送路を有する第1の搬送区間M1と、上り傾斜の搬送路を水平な搬送路から形成可能な第2の搬送区間M2と、第2の搬送区間M2が上り傾斜の状態で、第2の搬送区間M2に続く下り傾斜の搬送路を形成する第3の搬送区間M3とを含む平流しの搬送ライン2と、搬送体6を駆動する搬送駆動部と、第1の搬送区間M1内で基板G上に第1の処理液Dを供給する第1の処理液供給部9と、第3の搬送区間M3内で基板G上に第2の処理液Wを供給する第2の処理液供給部13と、第2の搬送区間M2に被処理基板Gが載置された状態で、該第2の搬送区間M2に敷設された搬送体6を上昇移動させ、第1の搬送区間M1に続く上り傾斜の搬送路を形成する昇降手段とを備える。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
被処理基板に第1の処理液を供給して所定の液処理を施し、前記第1の処理液を回収して第2の処理液により洗浄する基板処理装置であって、 前記被処理基板を搬送するための搬送体を所定の搬送方向に敷設しており、前記搬送方向において実質的に水平な搬送路を有する第1の搬送区間と、前記第1の搬送区間に続く上り傾斜の搬送路を水平な搬送路から形成可能な第2の搬送区間と、前記第2の搬送区間が上り傾斜の状態で、前記第2の搬送区間に続く下り傾斜の搬送路を形成する第3の搬送区間とを含む平流しの搬送ラインと、 前記搬送ライン上で前記基板を搬送するために前記搬送体を駆動する搬送駆動部と、 前記第1の搬送区間内で前記基板上に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、 前記第3の搬送区間内で前記基板上に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と、 前記第2の搬送区間に前記被処理基板が載置された状態で、該第2の搬送区間に敷設された搬送体を上昇移動させ、前記第1の搬送区間に続く上り傾斜の搬送路を形成する昇降手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/30 ,  B65G 49/06 ,  H01L 21/677
FI (4件)：
H01L21/30 569D ,  G03F7/30 501 ,  B65G49/06 Z ,  H01L21/68 A
Fターム (17件)：
2H096AA28 ,  2H096GA17 ,  2H096GA24 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031GA51 ,  5F031GA53 ,  5F031GA56 ,  5F031HA58 ,  5F031HA74 ,  5F031LA07 ,  5F031LA13 ,  5F031MA26 ,  5F046LA11 ,  5F046LA14 ,  5F046LA19
引用特許：
出願人引用 (7件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-184717   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-186521   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 基板の現像方法及び現像装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-115436   出願人：東京応化工業株式会社
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審査官引用 (6件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-186521   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 基板の現像方法及び現像装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-115436   出願人：東京応化工業株式会社
  • 搬送装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-170647   出願人：石川島播磨重工業株式会社
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