特許
J-GLOBAL ID：200903091311680014

基板処理装置

発明者：
小宮 洋司

小宮 洋司 について

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西村 徳彦

西村 徳彦 について

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八尋 俊一

八尋 俊一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-186521
公開番号（公開出願番号）：特開2007-005695
出願日： 2005年06月27日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：
【課題】 平流しの搬送ライン上で被処理基板に供給した第1の処理液を分別回収して第2の処理液に置き換える動作を効率よくスムースに行うこと。【解決手段】基板Gは、その可撓性により基板全長の一部に搬送ライン120の隆起部120aに倣った突条の基板隆起部Gaを形成し、かつ搬送速度に等しい速度で基板隆起部Gaを基板の前端から後端まで搬送方向と反対方向に相対的に移動させながら隆起部120aを通過する。上り傾斜路M2では、基板G上で現像液Rが重力により基板後方へ流れ、基板Gの前端から後端に向ってほぼ搬送速度に等しい速度で現像液Rの液膜が液盛りの状態から薄膜R'の状態に変化する。基板Gが下り傾斜路M3に移ると、上方のリンスノズル138より帯状の吐出流でリンス液Sを供給され、基板G上のリンス液Sが着液するライン付近で薄膜状態の現像液R'はリンス液Sに置換されて現像が完全に停止する。【選択図】 図12
請求項（抜粋）：
被処理基板を被処理面を上に向けた仰向けの姿勢で搬送するための搬送体を水平な所定の搬送方向に敷設してなり、前記搬送方向において実質的に水平な搬送路を有する第1の搬送区間と、前記第1の搬送区間に続く上り傾斜の搬送路を有する第2の搬送区間と、前記第2の搬送区間に続く下り傾斜の搬送路を有する第3の搬送区間と、前記第3の搬送区間に続く実質的に水平な搬送路を有する第4の搬送区間とを含む平流しの搬送ラインと、 前記搬送ライン上で前記基板を搬送するために前記搬送体を駆動する搬送駆動部と、 前記第1または第2の搬送区間内で前記基板上に第1の処理液を供給する第1の処理液供給部と、 前記第3の搬送区間内で前記基板上に第2の処理液を供給する第2の処理液供給部と を有する基板処理装置。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (1件)：
H01L21/30 569D
Fターム (3件)：
5F046LA11 ,  5F046LA14 ,  5F046LA19
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-184717   出願人：東京エレクトロン株式会社
審査官引用 (11件)
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