特許
J-GLOBAL ID：200903001861703063
アルカリ溶液の純化方法及び半導体ウェーハのエッチ ング方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-218503
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129624
出願日： 1996年08月20日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：
【要約】【課題】 アルカリ溶液中の金属不純物、特に金属イオンを低コストで極めて効率よく非イオン化することを可能としたアルカリ溶液の純化方法ならびにこの純化されたアルカリ溶液を用いて半導体ウェーハの品質を劣化させることなくエッチングを行なうことを可能とした半導体ウェーハのエッチング方法を提供する。【解決手段】 金属シリコン及び/又はシリコン化合物をアルカリ溶液中に溶解し、このとき発生する反応生成物によりアルカリ溶液中の金属イオンを非イオン化する。
請求項（抜粋）：
金属シリコン及び/又はシリコン化合物をアルカリ溶液中に溶解し、このとき発生する反応生成物によりアルカリ溶液中の金属イオンを非イオン化することを特徴とするアルカリ溶液の純化方法。
IPC (4件)：
H01L 21/308
, C01D 1/28
, C30B 29/06
, C30B 33/10
H01L 21/308 B
, C01D 1/28 A
, C30B 29/06 B
, C30B 33/10
