特許
J-GLOBAL ID：200903001878479914

細胞固定用基板の製造方法および細胞固定用基板

発明者：
鈴木 信二

鈴木 信二 について


出願人/特許権者：
ウシオ電機株式会社

ウシオ電機株式会社 について


代理人 (1件)： 大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-065208
公開番号（公開出願番号）：特開2004-267152
出願日： 2003年03月11日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】特定位置に細胞を固定することのできる細胞固定用基板を容易に製造することのできる方法および細胞固定用基板を提供すること。【解決手段】細胞固定用基板の製造方法は、疎水性樹脂基材の表面において親水性重合体層を形成することにより得られる積層体に対して、パターンマスクを介して光源から放射される紫外線を照射することにより、当該パターンマスクのパターンに対応する積層体の紫外線照射領域において、親水性重合体層部分および当該親水性重合体層部分と疎水性樹脂基材よりなる疎水性樹脂基材層部分との界面に存在する化学反応物を除去して疎水性樹脂基材に由来の疎水性表面を露出させる積層体処理工程を有することを特徴とし、細胞固定用基板は、上記の細胞固定用基板の製造方法によって得られることを特徴とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
疎水性樹脂基材の表面において親水性重合体層を形成することにより得られる積層体に対して、パターンマスクを介して光源から放射される紫外線を照射することにより、当該パターンマスクのパターンに対応する積層体の紫外線照射領域において、親水性重合体層部分および当該親水性重合体層部分と疎水性樹脂基材よりなる疎水性樹脂基材層部分との界面に存在する化学反応物を除去して疎水性樹脂基材に由来の疎水性表面を露出させる積層体処理工程を有することを特徴とする細胞固定用基板の製造方法。
IPC (3件)：
C12M3/00 ,  G01N37/00 ,  G03F7/20
FI (3件)：
C12M3/00 A ,  G01N37/00 102 ,  G03F7/20 501
Fターム (23件)：
2H096AA30 ,  2H096BA09 ,  2H096EA03 ,  2H096EA27 ,  2H096GA45 ,  2H096HA03 ,  2H096HA30 ,  2H096JA04 ,  2H097CA12 ,  2H097GA45 ,  2H097LA20 ,  4B029AA08 ,  4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029CC03 ,  4B029CC08 ,  4B029GA03 ,  4B029GA08 ,  4B029GB05 ,  4B029GB06 ,  4B029GB09 ,  4B029GB10
引用特許：
審査官引用 (5件)
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