特許
J-GLOBAL ID:200903001878861290
ガスセンサの加熱方法及びガスセンサ
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
千葉 剛宏 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-066719
公開番号(公開出願番号):特開2002-267633
出願日: 2001年03月09日
公開日(公表日): 2002年09月18日
要約:
【要約】【課題】ヒータに対するフィードバック制御に入った瞬間に基体の温度が急激に上昇するという現象を回避する。【解決手段】ヒータの加熱開始時点t0からヒータ発熱部の抵抗値が基準値以上となるまでの期間T1においては、前記ヒータに対して、増加率を多段階に切り換えながら制御を行う。この増加率の多段階の切換え制御によって、ヒータ発熱部の温度が徐々に上がり、該温度に応じて抵抗値が上昇することとなる。そして、ヒータ発熱部の抵抗値が一旦基準値以上となった時点t1からそれ以降の期間T2において、前記基準値を目標値とするフィードバック制御を行う。
請求項(抜粋):
セラミックスの基体にヒータが埋設され、前記ヒータを制御しながら昇温するガスセンサの加熱方法において、昇温速度は、低温領域では速く、高温領域では遅くすることを特徴とするガスセンサの加熱方法。
IPC (3件):
G01N 27/419
, G01N 27/416
, G01N 27/409
FI (7件):
G01N 27/46 327 Q
, G01N 27/46 311 G
, G01N 27/46 327 E
, G01N 27/46 331
, G01N 27/46 371 G
, G01N 27/46 376
, G01N 27/58 B
Fターム (11件):
2G004BB04
, 2G004BD04
, 2G004BD14
, 2G004BE04
, 2G004BE22
, 2G004BE23
, 2G004BE25
, 2G004BE27
, 2G004BE29
, 2G004BJ03
, 2G004BL08
引用特許:
出願人引用 (6件)
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特開平2-260386
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ガス成分濃度測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-358524
出願人:株式会社デンソー
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特公平7-089105
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審査官引用 (7件)
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